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镀膜设备的镀膜方式及常会遇到的问题

镀膜设备就是在高真空状态下通过高温将金属铝熔化蒸发，使铝的蒸汽沉淀堆积到塑料薄膜表面上，从而使塑料薄膜表面具有金属光泽的设备。真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术，在现实生产生活中有着广泛的应用。

镀膜设备的镀膜方式：离子镀，蒸发镀，溅射镀

(1)镀膜设备的特点： 成膜速度快0.1- 50um/min，设备比较简单，操作容易;制得薄膜纯度高;薄膜生长机理较简单。

(2) 缺点：薄膜附着力较小，结晶不够完善，工艺重复性不够好。

镀膜设备镀出的产品掉膜是怎么回事?

一。产品表面洁净度不够.

二。清洗是否有加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议用纯水先试一下。

三。工艺参数是否有变动在膜厚和电流上可以做点调整。

还有就是靶材的问题等。热蒸发镀膜机

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北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，学校热蒸发镀膜机报价，硬质涂层设备等。

蒸发镀膜设备 Thermal Evaporator

产品参数Product Parameters：

型号Model: ZHD300/ZHD400/ZHDS400

镀膜方式Coating Method: 电阻蒸发/多源蒸发

腔室结构 Chamber Structure: 玻璃钟罩/立式方形前开门/方箱式前后开门

腔室尺寸Chamber Size: Φ300×H360mm/L400×W440×H450mm

加热温度 Baking Temp: 室温～300℃

旋转基片台 Rotating Substrate Holder: Φ100mm/120mm×120mm

基片台升降 Substrate Holder Lifting: 无/手动调节升降高度0～80mm

膜厚不均匀性 Film Thickness Nonuniformity: 基片台Φ80mm范围内≤±5.0%

蒸发源Evaporation Source: 2组金属源/2~4组金属源、2~4有机源(可选)

控制方式Operation Method: PLC

功率 Power: ≥3.2kW/≥8kW/≥10kW

其他选配 Other Opti*: 蒸发电源/膜厚仪/冷水机/等

产品特点 Product Features：

1. 工艺成熟，性能稳定，使用维护成本低；

2. 功能强大，学校热蒸发镀膜机哪家好，兼容有机蒸发与无机蒸发，多元共蒸与分蒸；

3. 一体化设计，占地面积小，可单独或与手套箱集成使用；

4. 适用范围：用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等，也可用于生产线前期工艺试验；广泛用于钙钛矿太阳能电池、OPV有机太阳能电池、OLED薄膜等研究系统等等。

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真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？

北京泰科诺科技有限公司自2003年成立以来，一直专注于真空设备的研发、制造，集真空镀膜设备、真空应用设备等相关设备及工艺的研发、制造、销售、服务于一体的高新技术企业。

主营产品蒸发镀膜机，磁控溅射镀膜机，电子束蒸发镀膜机，多弧离子溅射镀膜机，热丝CVD设备，装饰镀膜机，热蒸发镀膜机，硬质涂层设备等。

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真空电镀设备镀膜前为何需要清洗？

真空电镀设备使用一段时间后，需要清洗，很多人会问为什么？不定期清洗会会有什么问题呢？下面分析一下真空电镀设备不清洗会怎样。

使用真空电镀设备镀膜之前，对镀膜材料做简单的清洗可以延长镀膜机的使用寿命，由于各种污染物不仅会使真空系统不能获得所需要的真空，真空元件也会影响镀膜机部件的连接强度和密封性能。

真空镀膜机中常见的污染物：

1、油

包括加工，装配，操作期间用到的润滑油，切削液，真空油脂等；

2、操作时，手汗、吹气时口中的唾沫、水蒸气、酸、碱、盐等；材料清洗时的残余物质，手汗，水中的矿物质；空气中的尘埃和其它有机物残留和抛光粉尘等。

清理这些污染物，****于****真空电镀设备工作的稳定性，使工作可以更顺利地进行。

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