您好,欢迎来到第一枪!
当前位置: 第一枪> 产品库> 原料辅料、初加工材料 > 矿业 > 有色金属矿产 > 其他有色金属矿产 > 北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价
您是不是要采购

北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价

第一枪帮您来“拼单”,更多低价等你来!

北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价

北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价
  • 北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价缩略图1
热线:17718373787
来电请说明在第一枪看到,谢谢!

北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价产品详情

查看全部其他有色金属矿产产品>>

溅射靶材磁控溅射的原理

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材磁控溅射的原理

磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞,电离出大量的*离子和电子,电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长,  在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,金属靶材,摆脱磁力线的束缚,金属靶材哪家优惠,远离靶材,****终沉积在基片上。

在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压,从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*,在阴****附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,金属靶材价格,在溅射金属时,其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。


石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,金属靶材哪里买,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

半导体用超高纯金属溅射靶材和高纯金属溅射靶材有区别吗

溅射靶材主要应用于电子及信息产业,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于*材料、高温耐蚀、*用品等行业。

分类 根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等 根据应用领域分为微电*材、磁记录靶材、光碟靶材、*靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电****靶材、封装靶材、其他靶材。

原理:在被溅射的靶****(阴****)与阳****之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压,从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*,在阴****附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。

石久高研专注15年提供高纯靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~


溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材要求:

纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~


金属靶材哪里买|金属靶材|北京石久高研(查看)由北京石久高研金属材料有限公司提供。金属靶材哪里买|金属靶材|北京石久高研(查看)是北京石久高研金属材料有限公司(www.shijiugaoyan*)今年全新升级推出的,以上图片仅供参考,请您拨打本页面或图片上的联系电话,索取联系人:史永泰。

以上内容为北京石久高研,金属靶材,金属靶材报价,本产品由北京石久高研金属材料有限公司直销供应。
声明:第一枪平台为第三方互联网信息服务提供者,第一枪(含网站、小程序等)所展示的产品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由会员企业发布,其真实性、准确性和合法性均由会员企业负责,第一枪概不负责,亦不负任何法律责任。第一枪提醒您选择产品/服务前注意谨慎核实,如您对产品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的,请与该企业沟通确认;如您发现有任何违法/侵权信息,请立即向第一枪举报并提供有效线索。我要举报

江湖通产品

查看全部其他有色金属矿产产品>>
点击查看联系方式
点击隐藏联系方式
联系人:史永泰电话:010-89789198手机:17718373787