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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材*

为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧，有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物，哪里有金属靶材，这也****于用户可以连续以大功率密度进行溅射。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

真空镀膜和光学镀膜的区别

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，金属靶材厂家*， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

如果只是就膜厚仪测试来讲的话，真空镀膜和光学镀膜的区别就是：

1、真空镀膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了；

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

****早的是光控测试，现在一般用晶控（晶振片）使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

就算镀膜机是国产的，膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是：MDC360C。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，黑龙江金属靶材， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶*的解决办法

1、采用中频电源或射频电源。

2、采用闭环控制反应气体的通入量。

3、采用孪生靶

4、控制镀膜模式的变换：在镀膜前，采集靶*的迟滞效应曲线，使进气流量控制在产生靶*的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。

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