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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,金属靶材,会产生不同的杀伤*效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、*、防腐的合金膜等)。

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真空镀膜靶材

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靶*的影响因素

影响靶*的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶*。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,哪里有金属靶材,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到*,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,金属靶材哪里买,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全*,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。


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溅射靶材

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靶材选择规程

分类:1.薄膜应用分类[1]:半导体功能(HfO2)、磁记录、巨磁电阻(稀土合金或氧化物类)、显示技术(ITO)、超导(Y2BaCu3O7);2.材料组成:金属(合金)、氧化物类(Al2O3、SiO、SiO2、TiO2、Ti2O3、ZrO2等)、氟化物类(MgF2、BaF2、YF3、Na3AlF6等)、其它化合物类(ZnS、ZnSe、PbTe等)。

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