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金属靶材_石久高研金属材料_哪里卖金属靶材

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金属靶材_石久高研金属材料_哪里卖金属靶材

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磁控溅射靶材

京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

磁控溅射靶材应用领域

存储用在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,金属靶材价格,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l *电强度。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,金属靶材供应商,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

解决靶材的结晶取向

靶材溅射时, 靶材中的原子****容易沿着密排面方向择优溅射出来,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此, 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材*获得一定取向的结晶结构, 存在较大难度, 只有根据靶材的*结构特点, 采用不同的成型方法, 热处理工艺进行控制。

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靶材的主要性能要求

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,金属靶材生产商, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的主要性能要求

纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,金属靶材,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和*性元素含量都有特殊要求。

密度

为了减少靶材固体中的气孔,****溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,****靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

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北京石久高研金属材料有限公司
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  • 主营行业:光学镀膜材料 , 合金靶材 , 二氧化钛 , 高纯材料 ,

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