金属靶材报价|金属靶材|北京石久高研
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- 名称北京石久高研金属材料有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 史永泰
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价格
面议
点此议价
- 采购量 不限制
- 发布日期 2018-06-16 08:19 至 长期有效
金属靶材报价|金属靶材|北京石久高研产品详情
溅射靶材清洁
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
金属靶材可以通过四步清洁,*步用无绒软布清洁;第二步与*步类似用酒精清洁;第三步用去离子水清洗。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。第四步在清除完有污垢的区域后,金属靶材价格,再用高压低水气的*气冲洗靶材。
石久高研专注15年提供高纯靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶*的物理解释
一般情况下,金属化合物的二次电子发射系数比金属的高,靶*后,靶材表面都是金属化合物,在受到离子轰击之后,释放的二次电子数量增加,****了空间的导通能力,降低了等离子体阻*,导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间,当发生靶*时,溅射电压会显著降低。
靶材的主要性能要求
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的主要性能要求
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,哪有金属靶材,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”,金属靶材多少钱, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和*性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔,****溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,金属靶材,薄膜的性能越好。此外,****靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。
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