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小型高真空电阻蒸发镀膜设备-蒸镀电****

★ 可镀110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化*刻蚀掩膜板;

★ 衬底可选择加热或水冷,源基距≥300mm;

★ 良好的薄膜均匀性和重复性,可在线监测和控制蒸发速率、膜厚;

★ 可沉积金属(Au, Ag, Al,真空蒸镀底漆, Ca, Cu, Mg,蒸镀设备, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;

★ 设备集成度高,结构紧凑,占地面积小(0.92平米);设备配脚轮,方便移动和*。


蒸镀

镀前准备

镀膜室抽真空到合适的真空度,对基片和镀膜材料进行预处理。加热基片,其目的是去除水分和增强膜基结合力。在高真空下加热基片,能够使基片的表面吸附的气体脱附。然后经真空泵抽气排出真空室,有利于****镀膜室真空度、膜层纯度和膜基结合力。然后达到一定真空度后.先对蒸发源通以较低功率的电,进行膜料的预热或者预熔,为****蒸发到基板上,用挡板遮盖住蒸发源及源物质,然后输入较大功率的电,将镀膜材料迅速加热到蒸发温度,蒸镀时再移开挡板。


纸张蒸镀铝工艺

纸张镀铝工艺有直接镀铝法和转移法两种。   

(1)直接镀铝法。直接镀铝法是先将被镇的卷筒纸基材表面涂覆一层胶层或复合一层PE薄膜,绍兴蒸镀,再经真空镀膜机直接镀铝,使纸的表面形成一层金属铝膜,然后将镀铝纸再进行回潮处理即成产品。如果需要得到各种不同颜色的镀铝纸,则需在镀铝纸表面再进行着色处理。


直接镀铝法主要有以下特点:

①生产工艺较简单,真空蒸镀设备,成本较低。

②对纸基材的表面质量和强度要求较高。镀铝时要求纸张的含水率在3%以下,一般纸张的含水率为6~7%,含水率降低会使纸张发脆、易断裂。因此,要求纸张具有较高的强度。



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