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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材：

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶*的物理解释

一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，靶*后，靶材表面都是金属化合物，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，****了空间的导通能力，降低了等离子体阻*，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间，镍铬硅合金，当发生靶*时，溅射电压会显著降低。

真空镀膜和光学镀膜的区别

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，镍铬硅合金公司，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

如果只是就膜厚仪测试来讲的话，镍铬硅合金供应商，真空镀膜和光学镀膜的区别就是：

1、真空镀膜：一般TiN，CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了；

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

****早的是光控测试，现在一般用晶控（晶振片）使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

就算镀膜机是国产的，膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是：MDC360C。

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