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有研新材：近2亿元投建高纯金属靶材项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，镍铬铝硅合金厂家， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

中证网讯 有研新材(600206)布告称，该公司全资子公司有研亿金新资料有限公司为提添加纯金属靶材研制出产才能和技能水平，扩大8-12英寸集成电路用靶材出产才能，在研讨国际、国内高纯金属靶材商场局势和技能开展趋势，以及自身优势和开展战略的基础上，出资19，943.90万元，建造有研亿金高纯金属靶材产业化建造项目。

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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材预溅射

靶材预溅射建议采用纯*气进行溅射，可以起到清洁靶材表面的作用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率，陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W小时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块，一个合理的功率加大速率为1.5W小时/平方厘米。

在进行预溅射的同时需要检查靶材起弧状况，预溅射时间一般为10分钟左右。如没有起弧现象，继续提升溅射功率到设定功率。根据经验，金属靶材可承受的溅射功率为25watts/平方厘米，陶瓷靶材为10watts/平方厘米。请同时参考用户系统操作手册中关于溅射时真空腔体压力的设定根据经验，一般应确保冷却水出水口的水温应低于35摄氏度，但****重要的是确保冷却水的循环系统能有效工作，通过冷却水的快速循环带走热量，是确保能以较高功率连续溅射的一项重要保障。对于金属靶材一般建议冷却水流量为20LPM水压在5GMP左右；对于陶瓷靶材一般建议水流量在30LPM水压在9GMP左右。

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PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，镍铬铝硅合金出售， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，湖南镍铬铝硅合金，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材的纯度，可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验；

2.晶粒度：要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验；

3.密度：原则上，靶材的密度越高越好。密度越高，晶粒间隙越小，压制紧密，靶材质量越好。可以用称量法检验；

4.*均匀性：对于两种成份以上的合成靶，特别是相互难融的成分，还可以做金相检验，镍铬铝硅合金公司，看成分、*是否均匀一致；

5.机械性能:有些靶材，如有色金属等可以要求一下。石墨靶，好一点的，也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。

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