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镍铜合金|北京石久高研金属材料|镍铜合金批发价格

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材要求:

纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,镍铜合金批发,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材预溅射

靶材预溅射建议采用纯*气进行溅射,镍铜合金,可以起到清洁靶材表面的作用。靶材进行预溅射时建议慢慢加大溅射功率,陶瓷类靶材的功率加大速率建议为1.5W小时/平方厘米。金属类靶材的预溅射速度可以比陶瓷靶材块,一个合理的功率加大速率为1.5W小时/平方厘米。

在进行预溅射的同时需要检查靶材起弧状况,预溅射时间一般为10分钟左右。如没有起弧现象,继续提升溅射功率到设定功率。根据经验,金属靶材可承受的溅射功率为25watts/平方厘米,陶瓷靶材为10watts/平方厘米。请同时参考用户系统操作手册中关于溅射时真空腔体压力的设定根据经验,一般应确保冷却水出水口的水温应低于35摄氏度,但****重要的是确保冷却水的循环系统能有效工作,通过冷却水的快速循环带走热量,镍铜合金供应商,是确保能以较高功率连续溅射的一项重要保障。对于金属靶材一般建议冷却水流量为20LPM水压在5GMP左右;对于陶瓷靶材一般建议水流量在30LPM水压在9GMP左右。

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溅射靶材

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对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且****终沉积在基片表面,经历成膜过程,****终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。




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