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做好对硅片回收的几个方面问题


硅片回收的切割问题

当我们对硅片进行切割的时候,光伏硅片回收,我们应该要看看他的在利用效果如何,只有这样才能够保证他的环保性。当然了在进行切割的时候我们也应该要看看他的切割直径是多少,另外就是他能够承受的载荷是多少还有就是他切割的速度了,除此之外还应该要观察他的维护性的简易程度如何控制,要是我们能够把这几个方面的问题都弄清楚了,那势必会给我们的作业带来帮助的。如果有朋友并不相信的话那也可以试着去尝试操作看看。



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半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机1溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括*金、铜、铁、铬等,半导体硅片回收,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,硅片,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细1菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。


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物理清洗

物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗:是用液体喷射片子表面,喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,太阳能硅片回收,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率****到超高频频段,清洗效果更好。


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