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城市管道直饮水工程技术|青海管道直饮水工程|管道直饮水工程

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广州艾克昇水处理设备有限公司是一家****从事纯水设备、超纯水设备、移动式水处理设备、管道直饮水、苦咸水设备、中水回用系统的设计、生产制造、安装工程及售后维护服务于一体的一站式水处理系统设备及工程供应商。同时经营有水处理产业链相关联全部产品。产品广泛应用于校园、企业、医院、酒店、日化、食品饮料、电子、化工、电厂、石油和印染等各行业。


EDI系统装置关于进水的注意事项:

进水必须符合反渗透直接透过水的水质,

·需要避免物理、化学和生物污染;

·物理污染PVC碎片、金属碎屑;污垢,尘土;焊渣;树脂颗粒等,

·化学污染、氧化剂;多价阳离子,如铁、锰等;环氧树脂及玻璃钢容器制作过程中所用的硬化剂。

·污染物的来源:敞开式储罐,脱气塔;

没有在EDI前配过滤器的软化器等。

EDI系统装置出水水质标准

采用RO装置出水作为EDI给水,在一般情况下,EDI装置的出水水质其电阻率都能达到16 MΩ·cm,有的甚至接近18 MΩ·cm。采取一些特殊的措施,还可使EDI装置的出水电阻率接近于18.2 MΩ·cm的理论纯水标准。然而,青海管道直饮水工程,对EDI装置出水电阻率指标的追求,应根据需要,要有经济观点,要从实际出发,不是愈高愈好。对于电子行业来说,用EDI装置直接获得18.2 MΩ·cm高纯水,可不必再在EDI装置后采用抛光混床处理,比较方便;对于发电行业,为用EDI装置处理锅炉补给水系统来说,只需获得5 MΩ·cm的纯水就可以了。从占EDI装置所处理的总水量的多少来看,像电子行业这种对水质要求高的用户,只占20% 左右;而对水质要求不高如发电行业作为锅炉补充水来说,要占60% 以上;对其它用户,它们对水质要求也不高,大致与发电行业相仿,城市管道直饮水工程技术,也占20%。因此从满足大多数的80% 用户来考虑,只需EDI装置出水在5 MΩ·cm以上就可以了。







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在晶体管、集成电路生产中,超纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片,水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,*(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,校园管道直饮水工程,Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化,管道直饮水工程公司,水中高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏,水中的颗粒(包括)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。集成电路生产对纯水水质的要求见表1。


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  • 主营行业:反渗透设备,纯水设备,超纯水设备,苦咸水设备,中水回用等

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  • 联系人: 冯先生
  • 电话:020-36939932
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