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溅射靶材分类

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材分类根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材。根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领域分为微电*材、磁记录靶材、光碟靶材、*靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电****靶材、封装靶材、其他靶材。

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金属靶材相对密度是以什么标准换算的

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比重(specific gr*ity)是相对密度(relative density)的旧称。相对密度定义为:某物质的密度与参考物质的密度之比。金属靶材通常是合金靶材才会用到相对密度,相对密度高代表含量高。 实际值除以理论值就是了。


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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材要求:

纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,铬靶价格,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源,铬靶,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,铬靶厂,如:碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

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北京石久高研金属材料有限公司
公司认证:
  • 公司地址:中国 北京市昌平区马池口镇上念头村北南路北侧国储金属材料交易市场B座商业楼222号
  • 注册资本:
  • 企业类型:
  • 主营行业:光学镀膜材料 , 合金靶材 , 二氧化钛 , 高纯材料 ,

联系方式

  • 联系人: 史永泰
  • 电话:010-89789198
  • 手机:17718373787
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  • 地址: 中国 北京市昌平区马池口镇上念头村北南路北侧国储金属材料交易市场B座商业楼222号
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