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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，铁镍靶厂家， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，铁镍靶报价，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于*材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。

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靶材储存

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高展金属靶材所提供的靶材包装在双层真空塑料袋中，铁镍靶， 我们建议用户将靶材无论是金属或陶瓷类保存在真*装中， 尤其是金属靶材更需要保存在真空条件下，以避免帖合层氧化影响贴合质量。

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磁控溅射靶材的原理介绍

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磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径，改变电子的运动方向，****工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片，真空室内壁及靶源阳****也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳****在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。

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