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高纯铜靶材的应用领域及发展趋势

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

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高纯铜靶材主要应用领域

高纯铜靶材主要应用于电子及信息产业，铁镍靶价格，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于*材料、高温耐蚀、*装饰用品等行业。

信息存储产业：随着信息及计算机技术的不断发展，世界市场对记录介质的需求量越来越大，与之相应的记录介质用靶材市场也不断扩大，其相关产品有硬盘、磁头、光盘(CD-ROM，CD-R，DVD-R等)、磁光相变光盘(MO，CD-RW，DVD-RAM)。

集成电路产业：在半导体应用领域，靶材是世界靶材市场的主要组成之一，铁镍靶，主要用于电****互连线膜、阻挡层薄膜、接触薄膜、光盘掩膜、电容器电****膜、电阻薄膜等方面。

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溅射对靶材有哪些性能要求

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

1.靶材短路后靶材成了负载，瞬间就会产生巨大的热量。由于纯铝的熔点很低，只有660摄氏度，不但在外力的作用下靶材变形，局部还会达到熔点，铁镍靶批发价格，形成溶洞；2。即便靶材不短路，铁镍靶报价，如果冷却系统出现问题铝靶材也容易变形；3.磁控溅射镀膜电源保护性的功能差，超载后不能及时自动停止工作。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材：

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

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