铁靶|石久高研|铁靶厂

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的主要性能要求:

为了减少靶材固体中的气孔，****溅射薄膜的性能，铁靶，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，****靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

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减反射膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

原理

减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。

1）振幅条件

膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。

2）位相条件

膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时，d=555/4=139nm

对于减反射膜层，许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波（波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄（〈139nm)，反射光会显出浅棕*，如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚（ 〉139nm）。

镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射，但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色，但残留颜色哪种是好的，其实并没有标准，目前主要是以个人对颜色的喜好为主，较多为绿色的色系。

我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同，因此在镜片*部分呈绿色，而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。

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溅射靶材磁控溅射的原理

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，铁靶批发， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材磁控溅射的原理

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞，电离出大量的*离子和电子，铁靶厂，电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，　　在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，****终沉积在基片上。

在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压，从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*，铁靶价格，在阴****附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

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