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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。


靶*的解决办法

1、采用中频电源或射频电源。

2、采用闭环控制反应气体的通入量。

3、采用孪生靶

4、控制镀膜模式的变换:在镀膜前,采集靶*的迟滞效应曲线,使进气流量控制在产生靶*的前沿,确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。


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PVD制程所用的靶材需要检验哪些项目

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1.靶材的纯度,可以用化学分析法、光谱能量测定法等方法检验;

2.晶粒度:要求晶粒越细小越好。而且晶粒要尽可能均匀一致。可以用光学显微镜检验;

3.密度:原则上,靶材的密度越高越好。密度越高,锌靶批发价格,晶粒间隙越小,压制紧密,靶材质量越好。可以用称量法检验;

4.*均匀性:对于两种成份以上的合成靶,特别是相互难融的成分,还可以做金相检验,看成分、*是否均匀一致;

5.机械性能:有些靶材,如有色金属等可以要求一下。石墨靶,好一点的,也有该要求。检验用专门的机械性能试验机。


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溅射靶材

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解决靶材的结晶取向

靶材溅射时, 靶材中的原子****容易沿着密排面方向择优溅射出来,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此, 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材*获得一定取向的结晶结构, 存在较大难度, 只有根据靶材的*结构特点, 采用不同的成型方法, 热处理工艺进行控制。

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