石久高研(图)|锡靶报价|锡靶
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- 名称北京石久高研金属材料有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 史永泰
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价格
面议
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2017-12-14 10:56 至 长期有效
石久高研(图)|锡靶报价|锡靶产品详情
溅射靶材的主要应用
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材就是目标材料。用于高能激光中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤*效应。用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材
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磁控溅射靶材的原理介绍
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,****工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳****也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳****在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射,锡靶,多弧镀靶源,锡靶供应商,离子源,锡靶报价,等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向,电压电流大小而已。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材原理: 以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度 镀膜氛围(低压气体氛围) 基片温度 激光器功率 脉冲频率 溅射时间 对于不同的溅射材料和基片,尽量参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。
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