高纯硅靶|石久高研|北京高纯硅靶厂家

高纯铝靶生产厂家

北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。

高纯铝靶

化学符号：Al外 观：银白色原 子 量：26.98154蒸发温度：1220℃密 度：2.7g/cm3熔 点：660℃沸 点：2467℃汽化温度：1082℃电 阻 率/μΩ?cm:2.66电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3溶 解 于：碱类，稀*蒸发方式：钨丝或钼舟蒸发源材料（丝、片）:W坩 埚:BN、TiC/C、TiB2-BN性 能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色，高纯硅靶，但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪，基地为氧化硅薄膜（100nm厚），北京高纯硅靶厂家价格，蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，可加工成任意形状；应 用：保护膜，反射膜，北京高纯硅靶，增透膜用 途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线

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高纯镀膜*铜粒/高纯铜粒

北京石久高研金属材料有限公司致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。

铜粒，铜靶，高纯铜，高纯铜粒，高纯铜靶化学符号：Cu原 子 量：63.546外观纯铜：紫红色金属熔 点：1083.4℃沸 点：2567℃密 度：8.92g/cm3蒸 发 源（丝、片）：钨、钽、钼、铌坩 埚：Mo、C、Al2O3在10-4Torr蒸发温度：1017℃ 薄膜的机械和化学性质：膜层附着不好，利用中间层Cr可增加附着力；

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