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(1) density,这个是****主要的,好的靶密度至少达到97%以上,所以大家买回靶来以后可以根据重量体积来计算一下 你们的靶的密度和理论块体的密度的比例有多少,低于90%的退货。

  (2) 开裂问题,套磁靶很容易开裂,所以大家一定要求用cu的背板,这个是必须的,另外靶材不宜太厚,小于5mm****1好了。金属靶是不大会开裂的,否则它的密度肯定很差。

  (3) 电导率,对于AZO, ITO靶材来说,买回来了可以测测他们的电导率是多少,不同公司用的粉不同,电导率有很大差别,越小你 做出来的膜导电性肯定越好了。否则你死活都做不出你需要的电阻率的。

  好的AZO靶材的AZO粉很重要,****1好的是用纯的AZO粉,旋转锆靶采购,但是价格很贵,而且工艺比较复杂,这样的靶材做出来的膜电阻率****1好







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合金靶材的溅射原理:

对溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且****终沉积在基片表面,经历成膜过程,****终形成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。   溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,马鞍山旋转锆靶,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。   以pld为例,因素主要有:    靶材与基片的晶格匹配程度   镀膜氛围(低压气体氛围)   基片温度   激光器功率   脉冲频率   溅射时间   对于不同的溅射材料和基片,****1佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精1确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。




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